| 发明名称 | 二氧化硅气凝胶薄膜的制备方法、减反射涂层和光学元件 | ||
| 摘要 | 本发明涉及二氧化硅气凝胶薄膜的制备方法、减反射涂层和光学元件，其中所述制备方法包括如下步骤：在碱催化剂存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶，向碱性溶胶中加入酸催化剂从而进行进一步的水解和聚合以制备第一酸性溶胶，在酸催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备第二酸性溶胶，将第一和第二酸性溶胶的混合物施用于基材上，并对其进行干燥。 | ||
| 申请公布号 | CN101376501A | 申请公布日期 | 2009.03.04 |
| 申请号 | CN200810210556.8 | 申请日期 | 2008.08.27 |
| 申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 铃木峰太;盐川孝绅;山田和广;中山宽之;山口日出树;丸田彩子 |
| 分类号 | C01B33/14(2006.01);C03C17/23(2006.01);G02B1/10(2006.01);G02B1/11(2006.01) | 主分类号 | C01B33/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京戈程知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程伟 |
| 主权项 | 1、一种制备二氧化硅气凝胶薄膜的方法，该方法包括以下步骤：在碱催化剂存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶，向碱性溶胶中加入酸催化剂从而进行进一步的水解和聚合以制备第一酸性溶胶，在酸催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备第二酸性溶胶，混合所述第一和第二酸性溶胶，将所得混合溶胶施用于基材上，并对其进行干燥。 | ||
| 地址 | 日本东京都新宿区中落合二丁目7番5号 | ||