发明名称 |
发光二极管的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种发光二极管的制备方法,其包括以下步骤:步骤a:提供一基底,该基底具有一外延生长面;步骤b:在基底的外延生长面外延生长一有源层,该有源层包括一第一半导体层、一活性层以及一第二半导体层依次层叠设置于所述基底的一表面,且所述第一半导体层靠近基底设置;步骤c:形成一金属等离子体产生层于所述第二半导体层远离基底的一侧;步骤d:形成一折射率与所述有源层的整体的等效折射率之差小于0.3的第一光学对称层;步骤e:去除所述基底,暴露出所述第一半导体层;以及步骤f:在所述第一半导体层暴露的表面制备一第一电极,制备一第二电极与所述第二半导体层电连接。 |
申请公布号 |
CN103474523B |
申请公布日期 |
2016.06.08 |
申请号 |
CN201210185699.4 |
申请日期 |
2012.06.07 |
申请人 |
清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
发明人 |
朱钧;张淏酥;李群庆;金国藩;范守善 |
分类号 |
H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种发光二极管的制备方法,其包括以下步骤:步骤a:提供一基底,该基底具有一外延生长面;步骤b:在基底的外延生长面外延生长一有源层,该有源层包括一第一半导体层、一活性层以及一第二半导体层依次层叠设置于所述基底的一表面,且所述第一半导体层靠近基底设置;步骤c:形成一金属等离子体产生层于所述第二半导体层远离基底的一侧;步骤d:形成一折射率与所述有源层的整体的等效折射率之差小于0.3的第一光学对称层于金属等离子体产生层远离基底的表面;步骤e:去除所述基底,暴露出所述第一半导体层;以及步骤f:在所述第一半导体层暴露的表面制备一第一电极,制备一第二电极与所述第二半导体层电连接。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室 |