发明名称 发光二极管的制备方法
摘要 本发明涉及一种发光二极管的制备方法,其包括以下步骤:步骤a:提供一基底,该基底具有一外延生长面;步骤b:在基底的外延生长面外延生长一有源层,该有源层包括一第一半导体层、一活性层以及一第二半导体层依次层叠设置于所述基底的一表面,且所述第一半导体层靠近基底设置;步骤c:形成一金属等离子体产生层于所述第二半导体层远离基底的一侧;步骤d:形成一折射率与所述有源层的整体的等效折射率之差小于0.3的第一光学对称层;步骤e:去除所述基底,暴露出所述第一半导体层;以及步骤f:在所述第一半导体层暴露的表面制备一第一电极,制备一第二电极与所述第二半导体层电连接。
申请公布号 CN103474523B 申请公布日期 2016.06.08
申请号 CN201210185699.4 申请日期 2012.06.07
申请人 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 发明人 朱钧;张淏酥;李群庆;金国藩;范守善
分类号 H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/00(2010.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种发光二极管的制备方法,其包括以下步骤:步骤a:提供一基底,该基底具有一外延生长面;步骤b:在基底的外延生长面外延生长一有源层,该有源层包括一第一半导体层、一活性层以及一第二半导体层依次层叠设置于所述基底的一表面,且所述第一半导体层靠近基底设置;步骤c:形成一金属等离子体产生层于所述第二半导体层远离基底的一侧;步骤d:形成一折射率与所述有源层的整体的等效折射率之差小于0.3的第一光学对称层于金属等离子体产生层远离基底的表面;步骤e:去除所述基底,暴露出所述第一半导体层;以及步骤f:在所述第一半导体层暴露的表面制备一第一电极,制备一第二电极与所述第二半导体层电连接。
地址 100084 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室