发明名称 共通ソースFETよりゲート酸化物が厚いバッファ段FETを有する静電放電保護回路
摘要 I/Oパッド(301)を保護するためのアクティブFET ESDセル(300)が、第1の厚みのゲート酸化物(315)を備えた第1のMOSトランジスタ(310)と、少なくともソースフォロワ閾値電圧を扱うために必要とされる量だけ第1の厚みより大きい第2の厚みのゲート酸化物(325)を備えた第2のMOSトランジスタ(320)とを含む。第1のトランジスタは、I/Oパッドに結びつけられるドレイン(313)、接地に結びつけられるソース(311)、及び第2のトランジスタのソース(321)に結びつけられ、接地(340)に抵抗性接続されるゲート(312)を有する。第2のトランジスタは、I/Oパッドに結びつけられるドレイン(323)、及びI/Oパッドに接続されるキャパシタ(330)に、及び接地に接続されるレジスタ(331)に結びつけられるゲートを有する。
申请公布号 JP2015507851(A) 申请公布日期 2015.03.12
申请号 JP20140553410 申请日期 2013.01.17
申请人 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社;テキサス インスツルメンツ インコーポレイテッド 发明人 ジョナサン ブロッキー
分类号 H01L27/06;H01L21/822;H01L27/04 主分类号 H01L27/06
代理机构 代理人
主权项
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