发明名称 |
共通ソースFETよりゲート酸化物が厚いバッファ段FETを有する静電放電保護回路 |
摘要 |
I/Oパッド(301)を保護するためのアクティブFET ESDセル(300)が、第1の厚みのゲート酸化物(315)を備えた第1のMOSトランジスタ(310)と、少なくともソースフォロワ閾値電圧を扱うために必要とされる量だけ第1の厚みより大きい第2の厚みのゲート酸化物(325)を備えた第2のMOSトランジスタ(320)とを含む。第1のトランジスタは、I/Oパッドに結びつけられるドレイン(313)、接地に結びつけられるソース(311)、及び第2のトランジスタのソース(321)に結びつけられ、接地(340)に抵抗性接続されるゲート(312)を有する。第2のトランジスタは、I/Oパッドに結びつけられるドレイン(323)、及びI/Oパッドに接続されるキャパシタ(330)に、及び接地に接続されるレジスタ(331)に結びつけられるゲートを有する。 |
申请公布号 |
JP2015507851(A) |
申请公布日期 |
2015.03.12 |
申请号 |
JP20140553410 |
申请日期 |
2013.01.17 |
申请人 |
日本テキサス・インスツルメンツ株式会社;テキサス インスツルメンツ インコーポレイテッド |
发明人 |
ジョナサン ブロッキー |
分类号 |
H01L27/06;H01L21/822;H01L27/04 |
主分类号 |
H01L27/06 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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