| 发明名称 | 硅石和硅石型淤浆 | ||
| 摘要 | 本发明涉及硅石、淤浆组合物及其制备方法。尤其，本发明的硅石包括聚集的初级粒子。引入了硅石的淤浆组合物适合于抛光制品，尤其可用于半导体基片和其它微电子基片的化学机械平整处理。 | ||
| 申请公布号 | CN1787966A | 申请公布日期 | 2006.06.14 |
| 申请号 | CN03826706.3 | 申请日期 | 2003.08.01 |
| 申请人 | PPG工业俄亥俄公司 | 发明人 | S·D·赫尔灵;C·P·麦克卡恩;S·V·巴布;李玉琢;S·纳拉亚南 |
| 分类号 | C01B33/12(2006.01);C01B33/187(2006.01);C01B33/193(2006.01);C09G1/02(2006.01);C09K3/14(2006.01) | 主分类号 | C01B33/12(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 龙传红 |
| 主权项 | 1、硅石，其包括：(a)初级粒子的聚集体，所述初级粒子具有至少七(7)纳米的平均直径，其中所述聚集体具有小于一(1)微米的聚集体尺寸；和(b)至少七(7)个羟基/平方纳米的羟基含量。 | ||
| 地址 | 美国俄亥俄州 | ||