Struktur und Herstellungsverfahren für eine selektiv abgeschiedene Verkappungsschicht auf einem epitaxial aufgewachsenen Source-Drain,申请号DE200711000760T-传众专利搜索

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发明名称	Struktur und Herstellungsverfahren für eine selektiv abgeschiedene Verkappungsschicht auf einem epitaxial aufgewachsenen Source-Drain
摘要
申请公布号	DE112007000760(T5)	申请公布日期	2009.01.29
申请号	DE200711000760T	申请日期	2007.03.19
申请人	INTEL CORPORATION	发明人	COOK, TED JUN.;SELL, BERNHARD;MURTHY, ANAND
分类号	H01L21/336;H01L29/78	主分类号	H01L21/336
代理机构		代理人
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