发明名称 |
彩膜基板及其制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种彩膜基板及其制作方法,该彩膜基板包括:在衬底基板上形成色阻层,所述色阻层包括多个彩膜,相邻两个彩膜之间相互交叠;在具有双折射率的平坦层材料中混合短波长的光起始剂,得到混合材料;将所述混合材料涂布在所述色阻层上;对遮光区域的混合材料进行曝光,以在所述遮光区域形成遮光部;其中所述遮光区域与所述相邻两个彩膜相互交叠的区域的位置相对应;对曝光后的混合材料进行固化形成平坦层。本发明能防止ESD漏电,降低了生产成本。 |
申请公布号 |
CN105867010A |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201610458769.7 |
申请日期 |
2016.06.22 |
申请人 |
武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
杨超群;黄长治 |
分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I |
代理机构 |
深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 |
代理人 |
黄威 |
主权项 |
一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底基板上形成色阻层,所述色阻层包括多个彩膜,相邻两个彩膜之间相互交叠;在具有双折射率的平坦层材料中混合短波长的光起始剂,得到混合材料;并将所述混合材料涂布在所述色阻层上;对遮光区域的混合材料进行曝光,以在所述遮光区域形成遮光部;其中所述遮光区域与所述相邻两个彩膜相互交叠的区域的位置相对应;对曝光后的混合材料进行固化形成平坦层。 |
地址 |
430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 |