| 摘要 |
一実施形態は、基板から得られるスペクトルルミネセンスマッピングデータを処理する、コンピュータで実行する方法であって、基板が、多重量子ウェルを含むエピタキシャル層スタックを有する、方法に関する。基板上の場所についてのスペクトルルミネセンスおよびエピ厚さが得られる。エピ厚さおよび材料屈折率が与えられた場合、場所についてのスペクトル変調を計算することができる。次いで、スペクトル変調によって測定されたスペクトルルミネセンスを分割することによって、基底ルミネセンススペクトルを生成することができる。続いて、基底ルミネセンススペクトルからピーク波長および他のパラメータを得ることができる。別の一実施形態において、首尾一貫した手法を用いて、エピ厚さを測定することなく基底ルミネセンススペクトルを決定することができる。別の一実施形態は、スペクトルルミネセンスマッピングおよびエピタキシャル厚さ測定のための装置に関する。他の実施形態、態様および特徴も開示される。 |
