首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
METHOD FOR FORMING MICRO-PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR20070045663(A)
申请公布日期
2007.05.02
申请号
KR20050102205
申请日期
2005.10.28
申请人
MAGNACHIP SEMICONDUCTOR, LTD.
发明人
JUNG, OH JIN
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
Modelo perfeccionado de montura para gafas
Válvula reguladora para recipientes destinados a cocer a presión
Dispositivo para identificación
Motorschutzschalter mit thermischem Überstromschutz und Freiauslösung
Teleferica monofune
Vorrichtung zum Wiedergeben von farbigen Fernsehbildern
Gehäuse für Fernsehempfänger
Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Maschinenelementes mit mindestens einem Kontaktschleifkörper und nach dem Verfahren hergestelltes elektrisches Maschinenelement
Llavero perfeccionado
Dispostivo evitador de derrame de líquidos que tengan dilatación en su tiempo de cocción
Interruptor disyuntor con dispositivo de alarma
Rótula perfeccionada para espejo retrovisor
Un nuevo clip automático
Pluma estilográfica que se carga por si misma
Groupe à turbine à gaz
Luftverdichter
Einrichtung zum motorischen Antrieb einer Maschine mit variabler Drehzahl mittels einer Rutschkupplung
Bracelet, notamment pour montre
Cellule électrolytique à cathode de mercure
Nuevo modelo de lavadora