发明名称 SUBSTRATE TREATING APPARATUS CLUSTER EQUIPMENT FOR TREATING SUBSTRATE AND METHOD FOR OPERATING SUBSTRATE TREATING APPARATUS
摘要 본 발명은 기판 처리 장치, 기판 처리용 클러스터 설비 및 기판 처리 장치 운용 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 기판이 탑재된 기판 보유기를 수용하는 다수의 수용부들; 상기 기판을 처리하는 다수의 처리부들; 수용부에 수용된 상기 기판 보유기와 처리부 간에 상기 기판을 이송하는 이송부; 및 상기 기판을 처리하기 위한 공정이 수행되도록 기판 처리 장치의 동작을 제어하되, 상기 다수의 수용부들에 상기 기판 보유기가 모두 수용되어 있고, 상기 다수의 처리부들 중 적어도 하나가 유휴 상태인 경우, 상기 다수의 수용부들 중에서 타겟 수용부를 선택하고, 상기 타겟 수용부로부터 제 1 기판 보유기를 반출한 뒤, 상기 타겟 수용부에 제 2 기판 보유기를 반입하고, 상기 제 2 기판 보유기에 탑재된 기판을 유휴 처리부로 이송하여 상기 유휴 처리부가 상기 기판을 처리하도록 제어하는 제어부;를 포함할 수 있다.
申请公布号 KR101664186(B1) 申请公布日期 2016.10.12
申请号 KR20150028428 申请日期 2015.02.27
申请人 국제엘렉트릭코리아 주식회사 发明人 박용성;이성광;윤순근;정순택
分类号 H01L21/677;B65G49/07 主分类号 H01L21/677
代理机构 代理人
主权项
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