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发明名称 Method for making high quality group-? nitride thin film by metal organic chemical vapor deposition
摘要
申请公布号 KR100506077(B1) 申请公布日期 2005.08.04
申请号 KR20000019821 申请日期 2000.04.15
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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