发明名称 光学测量装置
摘要 通过在设置在容器(1)内的电极对(2)上施加电压,在存储样品的容器(1)中产生规则分布的电场分布,因此产生由容器(1)内的样品中粒子的密度调节形成的衍射光栅,基于通过在通过粒子的密度调节形成的衍射光栅上照射光束而获得的衍射光束的强度的消灭过程的时间变化,获得粒子的扩散信息,构成电极对2的电极(21、22)被构成具有多个彼此平行的线性电极齿(21a、22a),电极(21、22)被布置成一个电极(21)的电极齿(21a)插在另一个电极齿(22a)之间,因此增加了通过粒子的密度调节形成的衍射光栅的宽度,并且包括在整个衍射光束中的衍射光栅的衍射光束的部分的比率增加,以便增加测量的敏感度。结果,设置了光学测量装置,其能够以高敏感度和优良的S/N比率来测量可移动地散布在介质中的粒子的扩散信息。
申请公布号 CN101223433A 申请公布日期 2008.07.16
申请号 CN200680026334.X 申请日期 2006.01.17
申请人 株式会社岛津制作所 发明人 森谷直司;南云雄三;和田幸久;坂内尚史;井上藤男;竹部雅博;田洼健二;十时慎一郎
分类号 G01N15/02(2006.01);G01N21/47(2006.01) 主分类号 G01N15/02(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 宋焰琴
主权项 1.一种光学测量装置,包括:容器,所述容器存储可移动地散布在介质中的粒子样品;电源,所述电源以预定图案或任意设定的图案产生电压,所述预定图案包括DC图案、频率调制图案、和电压调制图案;电极对,所述电极对设置在所述容器中,并且当所述电源施加电压时,所述电极对在所述容器中产生规则分布的电场分布;控制装置,所述控制装置控制所述电源在所述电极对上的电压施加以便产生/消灭通过粒子的密度调节形成的衍射光栅,所述粒子的密度调节通过作用在所述容器内的样品中的粒子上的电泳力产生;光源,所述光源发射光束到所述容器内形成所述衍射光栅的产生区域上;和光电探测器,所述光电探测器探测被所述衍射光栅衍射的发射光束的衍射光束,其中:基于所述光电探测器探测的衍射光束的强度的时间变化,来评价样品中的粒子;构成所述电极对的所述相应电极包括彼此平行的梳形电极齿和与相应电极齿彼此电连接的连接部分;并且所述相应电极被布置成在所述一个电极的电极齿插在所述另一个电极的所述电极齿之间时,所述相应电极的所述电极齿以恒定的间隔隔离开、彼此平行、并且交替地设置。
地址 日本京都府