| 摘要 |
本発明は、ターゲットの露出のための荷電粒子リソグラフィシステムに関する。システムは、荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ビーム発生器と、荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイ（６）と、ビームレットをターゲットの表面上に投影するためのビームレット投影器（１２）を有している。荷電粒子ビーム発生器は、発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源（３）と、発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム（５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ；７２；３００）と、コリメーターシステムから熱を取り除くための冷却装置（２０３）を備えており、冷却装置は、コリメーターシステムの少なくとも一部を取り囲んでいる本体を備えている。 |
