发明名称 EUV投影リソグラフィのための照明光学ユニット
摘要 EUV投影リソグラフィのための照明光学ユニットは、リソグラフィマスクを配置することができる物体視野に照明光を案内するように機能する。照明光学ユニットは、少なくとも2つの傾斜位置の間で切り換えることができる多数の個々のミラー(26)を含む第1のファセットミラー(36)を有する。個々のミラー(26)は、照明光部分ビームを物体視野(5)に案内するための個々のミラー照明チャネル(35a)を与える。照明光学ユニットの第2のファセットミラー(20)は、照明光(16)のビーム経路内で第1のファセットミラー(36)の下流に配置される。第2のファセットミラー(20)は、群ミラー照明チャネル(35)を通じて第1のファセットミラー(36)の個々のミラー(26)の群(24a)を物体視野(5)に結像することにそれぞれ寄与する複数のファセット(34)を有する。群(24a)の像は、物体視野(5)内で互いの上に重ね合わされる。個々のミラーの少なくとも一部(260)は、専用群ミラー照明チャネル(352,353)を通じて専用の第2のファセット(342,343)にそれぞれ関連付けられた個々のミラー群のうちの少なくとも2つの異なる群(24a2,24a3)に属する。【選択図】図10
申请公布号 JP2015517733(A) 申请公布日期 2015.06.22
申请号 JP20150511982 申请日期 2013.04.30
申请人 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 发明人 パトラ ミヒャエル
分类号 H01L21/027;G02B5/10;G02B19/00 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址