Verfahren zum Herstellen von Masken

摘要

Ein Verfahren zum Herstellen einer Gruppe von Masken zur Herstellung eines integrierten Schaltkreises umfasst das Ermitteln des Vorhandenseins einer ersten Durchkontaktierungs-Layoutstruktur und einer Speisespannungsleitungs-Layoutstruktur in einem Original-Layoutentwurf. Die erste Durchkontaktierungs-Layoutstruktur und die Speisespannungsleitungs-Layoutstruktur überlappen einander. Die erste Durchkontaktierungs-Layoutstruktur ist Teil eines ersten Zellen-Layouts des Original-Layoutentwurfs. Das erste Zellen-Layout und ein zweites Zellen-Layout des Original-Layoutentwurfs haben die Speisespannungsleitungs-Layoutstruktur gemeinsam. Das Verfahren umfasst weiterhin das Modifizieren des Original-Layoutentwurfs zu einem modifizierten Layoutentwurf und das Herstellen der Gruppe von Masken auf Grund des modifizierten Layoutentwurfs. In dem Fall, dass die erste Durchkontaktierungs-Layoutstruktur und die Speisespannungsleitung in dem Original-Layoutentwurf vorhanden sind, umfasst das Modifizieren des Original-Layoutentwurfs das Ersetzen der ersten Durchkontaktierungs-Layoutstruktur durch eine vergrößerte Durchkontaktierungs-Layoutstruktur.