| 发明名称 |
Maske für die Projektionslithographie |
| 摘要 |
Eine Maske (7) für die Projektionslithographie hat eine konkave Oberfläche. |
| 申请公布号 |
DE102016205695(A1) |
申请公布日期 |
2016.10.13 |
| 申请号 |
DE201610205695 |
申请日期 |
2016.04.06 |
| 申请人 |
Carl Zeiss SMT GmbH |
发明人 |
Endres, Martin;Gruner, Toralf;Ruoff, Johannes |
| 分类号 |
G03F1/60;G03F1/24;G03F1/62;G03F7/20;G03F7/24 |
主分类号 |
G03F1/60 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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