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发明名称 APPARATUS OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号 KR100712595(B1) 申请公布日期 2007.05.02
申请号 KR20010039454 申请日期 2001.07.03
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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