发明名称 蚀刻缸结晶清除装置
摘要 本实用新型提供了一种蚀刻缸结晶清除装置,包括蚀刻缸、蚀刻子液自动加药系统、用于清除结晶的第一加药管和用于清除结晶的第二加药管,所述第一加药管安装在所述蚀刻缸的入板段,所述第二加药管安装在所述蚀刻缸的出板段,所述蚀刻子液自动加药系统的出口分别与所述第一加药管及所述第二加药管连接。由于每次制作电路板时,蚀刻子液均由蚀刻子液自动加药系统自动添加,故可持续通过第一加药管及所述第二加药管处流下,即可将结晶溶解掉,再回流到蚀刻缸内,实现蚀刻结晶自动清除的目的,从而使输送滚轮一直保持顺畅,具有结构简单、成本低的特点。
申请公布号 CN205774801U 申请公布日期 2016.12.07
申请号 CN201620485787.X 申请日期 2016.05.26
申请人 深圳市迅捷兴电路技术有限公司 发明人 马卓;罗晓明
分类号 C23F1/08(2006.01)I 主分类号 C23F1/08(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种蚀刻缸结晶清除装置,其特征在于,包括蚀刻缸(1)、蚀刻子液自动加药系统(2)、用于清除结晶的第一加药管(3)和用于清除结晶的第二加药管(4),所述第一加药管(3)安装在所述蚀刻缸(1)的入板段(5),所述第二加药管(4)安装在所述蚀刻缸(1)的出板段(6),所述蚀刻子液自动加药系统(2)的出口分别与所述第一加药管(3)及所述第二加药管(4)连接。
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