多蒸发源镀膜装置

摘要

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种多蒸发源镀膜装置，其特征在于：在所述真空镀膜室内设置有多个膜厚控制仪，其中一个所述膜厚控制仪设置在所述工件伞架的中心位置用于监控所述镀膜基片上的镀膜速率，其余的所述膜厚控制仪与所述蒸发源构成一一对应以分别监控和调节每个所述蒸发源的蒸发速率。本实用新型的优点是：实现多蒸发源同时镀膜，精确控制蒸发源的镀膜速率和蒸发角；装置结构简单合理，使用方便，自动化程度高，所镀的多组分膜层均匀性好，质量高。

主权项

一种多蒸发源镀膜装置，所述装置包括一真空镀膜室，所述真空镀膜室内固定设置有工件伞架，所述工件伞架上承载有若干镀膜基片，所述工件伞架下方设置有至少两个蒸发源，其特征在于：在所述真空镀膜室内设置有多个膜厚控制仪，其中一个所述膜厚控制仪设置在所述工件伞架的中心位置用于监控所述镀膜基片上的镀膜速率，其余的所述膜厚控制仪与所述蒸发源构成一一对应以分别监控和调节每个所述蒸发源的蒸发速率。