发明名称 |
メトロロジー方法及び装置、基板、リソグラフィシステム並びにデバイス製造方法 |
摘要 |
【課題】ターゲットサイズが縮小すると、より小さいROIを選択することに関連する欠点を回避する。【解決手段】リソグラフィプロセスによって基板上に形成されるメトロロジーターゲットは複数のコンポーネント格子を含む。ターゲットの像はコンポーネント格子によって回折された+1次及び−1次放射を用いて形成される。検出された像内の関心領域(ROI)はコンポーネント格子に対応して識別される。各ROI内の強度値は、非対称性、それ故オーバレイエラーの測定値を得るために画像間で処理され、比較される。画像内に暗領域を設けるように、コンポーネント格子間に分離ゾーンが形成され、設計される。ある実施形態では、ROIは、それらの境界が分離ゾーンに対応する画像領域内に入るように選択される。この手段によって、ROI内の位置変動に対する非対称性の測定耐性が高まる。暗領域はまた、画像内のターゲットの認識も支援する。【選択図】図8 |
申请公布号 |
JP2015520859(A) |
申请公布日期 |
2015.07.23 |
申请号 |
JP20150514397 |
申请日期 |
2013.05.01 |
申请人 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. |
发明人 |
ヤク,マーティン;コーレン,アルマンド;スミルデ,ヘンドリク |
分类号 |
G01N21/47;G01N21/956;H01L21/027 |
主分类号 |
G01N21/47 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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