发明名称 Chemisch-mechanisches Polierkissen und Verfahren zu dessen Herstellung
摘要 Es wird ein chemisch-mechanisches Polierkissen bereitgestellt, umfassend: eine chemisch-mechanische Polierschicht, die eine Polieroberfläche aufweist, wobei die chemisch-mechanische Polierschicht durch Vereinigen (a) einer flüssigen Komponente der Poly-Seite (P), umfassend: ein Amin-Kohlendioxid-Addukt und mindestens eines von einem Polyol, einem Polyamin und einem Alkoholamin, und (b) einer flüssigen Komponente der Iso-Seite (I), umfassend: ein polyfunktionelles Isocyanat, gebildet wird, wobei die chemisch-mechanische Polierschicht eine Porosität von ≥ 10 Vol.-% aufweist, wobei die chemisch-mechanische Polierschicht eine Shore D-Härte von < 40 aufweist und wobei die Polieroberfläche zum Polieren eines Substrats angepasst ist. Verfahren zur Herstellung und Verwendung desselben werden ebenfalls bereitgestellt.
申请公布号 DE102016007775(A1) 申请公布日期 2016.12.29
申请号 DE20161007775 申请日期 2016.06.24
申请人 Dow Global Technologies LLC;Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc. 发明人 Qian, Bainian;Kozhukh, Julia;Brufau, Teresa Brugarolas;Veneziale, David Michael;Tong, Yuhua;Lugo, Diego;Miller, Jeffrey B.;Jacob, George C.;DeGroot, Marty;Tran, Tony Quan;Stack, Marc R.;Wank, Andrew;Yeh, Fengji
分类号 B24B37/24;B24D18/00;H01L21/304 主分类号 B24B37/24
代理机构 代理人
主权项
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