摘要 |
Es wird ein chemisch-mechanisches Polierkissen bereitgestellt, umfassend: eine chemisch-mechanische Polierschicht, die eine Polieroberfläche aufweist, wobei die chemisch-mechanische Polierschicht durch Vereinigen (a) einer flüssigen Komponente der Poly-Seite (P), umfassend: ein Amin-Kohlendioxid-Addukt und mindestens eines von einem Polyol, einem Polyamin und einem Alkoholamin, und (b) einer flüssigen Komponente der Iso-Seite (I), umfassend: ein polyfunktionelles Isocyanat, gebildet wird, wobei die chemisch-mechanische Polierschicht eine Porosität von ≥ 10 Vol.-% aufweist, wobei die chemisch-mechanische Polierschicht eine Shore D-Härte von < 40 aufweist und wobei die Polieroberfläche zum Polieren eines Substrats angepasst ist. Verfahren zur Herstellung und Verwendung desselben werden ebenfalls bereitgestellt. |
申请人 |
Dow Global Technologies LLC;Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc. |
发明人 |
Qian, Bainian;Kozhukh, Julia;Brufau, Teresa Brugarolas;Veneziale, David Michael;Tong, Yuhua;Lugo, Diego;Miller, Jeffrey B.;Jacob, George C.;DeGroot, Marty;Tran, Tony Quan;Stack, Marc R.;Wank, Andrew;Yeh, Fengji |