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发明名称
基板结构及其制法;SUBSTRATE STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
摘要
一种基板结构,系包括:一基板本体、设于该基板本体上且具有复数开孔之绝缘保护层、以及设于各该开孔中之至少一电性接触垫与至少一环体,使各该电性接触垫对应外露于各该开孔,且各该环体对应环绕各该电性接触垫之边缘,以于后续制程将导电元件形成于各该环体中,故于回焊该导电元件时,该环体会局限该导电元件向外扩张,因而能避免该导电元件挤压该绝缘保护层而造成该绝缘保护层碎裂之问题。本发明复提供该基板结构之制法。
申请公布号
TW201530669
申请公布日期
2015.08.01
申请号
TW103102603
申请日期
2014.01.24
申请人
矽品精密工业股份有限公司 SILICONWARE PRECISION INDUSTRIES CO., LTD.
发明人
张辰安 CHANG, CHENG AN;孙崧桓 SUN, SUNG HUAN;吴建宏 WU, CHIEN HUNG;陈以婕 CHEN, YI CHEIH;廖文楷 LIAO, WEN KAI
分类号
H01L21/60(2006.01);H01L23/48(2006.01)
主分类号
H01L21/60(2006.01)
代理机构
代理人
陈昭诚
主权项
地址
台中市潭子区大丰路3段123号 TW
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