| 摘要 |
カラーフィルターのブラックマトリックス用レジスト組成物に利用した場合、高遮光かつ高抵抗で密着性に優れた細線パターンを形成することができるカーボンブラック分散体を提供する。表面が染料で被覆されてなる染料被覆カーボンブラックと、下記一般式（Ｉ）【化１】（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を表し、Ｒ５は、水素原子又はメチル基を表し、Ａは、−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｏ−、９，９−フルオレニル基又は直結合を表し、Ｘは４価のカルボン酸残基を表し、Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立して水素原子又は−ＯＣ−Ｚ−（ＣＯＯＨ）ｍ（但し、Ｚは２価又は３価カルボン酸残基を表し、ｍは１〜２の数を表す）を表し、ｎは１〜２０の整数を表す）で示されるエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物とを含む、ブラックマトリックス用カーボンブラック分散体である。 |
