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经营范围
发明名称
CHAMICAL MACHANICAL POLISHING PAD
摘要
申请公布号
KR100903473(B1)
申请公布日期
2009.06.18
申请号
KR20070122705
申请日期
2007.11.29
申请人
发明人
分类号
H01L21/304;B24B37/20;B24B37/26;B24B49/12
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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