| 摘要 |
本発明は：基板上にテクスチャを形成する方法であって、前記方法が：前記基質上に変形可能層を堆積すること；前記変形可能層を、子型のテクスチャ加工された面と接触させること；前記コーティングされた基板及び前記子型を、不透過性材料から作られたパウチ内に導入すること；前記パウチ及び前記パウチの内容物を気密性容器に導入すること；最大で０．５バールと等しい圧力に達するまで、前記容器から空気を排除すること；前記容器中に空気を再導入する前に前記パウチを密封すること；前記密封されたパウチ及び前記パウチの内容物をオートクレーブ内に導入すること；両端値を含む０．５〜８バールの圧力及び両端値を含む２５〜４００℃の温度を、１５分間から数時間、適用すること；前記パウチを開くこと；次いで前記基板及び前記子型を分離すること；を含む、方法、前記方法により得られる、テクスチャ加工された層でコーティングされたガラス基板を備える透明アセンブリ；並びに光を抽出、誘導するか又は光の方向を変えることを目的とする基板を得るため、又は超疎水性又は超親水性基板を得るための、この方法の適用；に関する。 |
