基板处理装置;SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

摘要

在基板处理装置中，于腔室盖部及杯部(161)位在第1位置之状态下，杯侧壁部(611)与液接取侧壁部(253)系在径向上产生重叠，防护部(166)系被液接取侧壁部(253)所支撑。在腔室盖部及杯部(161)朝向较第1位置为更上方之第2位置进行移动之时，防护部(166)系以藉由杯侧壁部(611)而被悬吊之方式而朝向上方移动。于腔室盖部及杯部(161)位在第2位置之状态下，杯侧壁部(611)之下端系位在较液接取侧壁部(253)之上端为更上方，防护部(166)系将杯侧壁部(611)之下端与液接取侧壁部(253)之上端之间的间隙加以覆盖。藉此，即使在来自旋转之基板之处理液朝向较杯侧壁部(611)为更下方产生飞散之情况下，仍可抑制处理液附着至外侧壁部(164)之状态。