发明名称 用于稳定化高温沉积的气冷式基材支撑件;GAS COOLED SUBSTRATE SUPPORT FOR STABILIZED HIGH TEMPERATURE DEPOSITION
摘要 本揭示案的实施例提供用于稳定基材温度的设备及方法,藉由:流动冷却气体之流动至基材支撑件中的冷却通道之入口,使用热交换器从冷却通道的出口接收冷却气体之流动,及释放冷却气体至最近环境,例如清理室或微环境。
申请公布号 TW201532126 申请公布日期 2015.08.16
申请号 TW104104251 申请日期 2015.02.09
申请人 应用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 魏斯特布莱恩 WEST, BRIAN;寇克斯麦可S COX, MICHAEL S.;吴正勋 OH, JEONGHOON
分类号 H01L21/203(2006.01);C23C14/00(2006.01) 主分类号 H01L21/203(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财李世章
主权项
地址 美国 US