| 发明名称 | 光学预型体的制备方法 | ||
| 摘要 | 一种光学预型体(preform)的制备方法，可包含将含有低聚物的第一组合物加入具有预定直径的圆柱形反应器中；在一离心场中聚合此第一组合物，以形成具有此预定外直径与第一内直径的圆柱形基材；根据此预定外直径与第一内直径间的轴向折射率分布(refraction index profile)来决定第二组合物中成分的比例；将此第二组合物加入此圆柱形基材中予以膨润；再聚合此第二组合物以获得此光学预型体，其中的各成分可具有乙烯性不饱和双键。 | ||
| 申请公布号 | CN1880975A | 申请公布日期 | 2006.12.20 |
| 申请号 | CN200510076658.1 | 申请日期 | 2005.06.13 |
| 申请人 | 冠德光电科技股份有限公司 | 发明人 | 陈建勋 |
| 分类号 | G02B1/04(2006.01);G02B6/00(2006.01);B29B11/00(2006.01) | 主分类号 | G02B1/04(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王燕秋 |
| 主权项 | 1、一种光学预型体的制备方法，其特征在于，该方法包含以下步骤：提供具有一预定直径的一圆柱形反应器；将一第一组合物加入该圆柱形反应器中，其中该第一组合物包含具有一第一密度与一第一折射率的一第一成分与具有一第二密度与一第二折射率的一低聚物成分；在一离心场中聚合该第一组合物，以形成具有该预定外直径与一第一内直径的一圆柱形基材；测量介于该预定外直径与该第一内直径间的一轴向折射率分布，以决定一第二组合物中该第一成分对于一第三成分的比例，该第三成分具有一第三密度与一第三折射率；将该第二组合物加入该圆柱形基材中，并在第一温度下静置足够长时间使得该圆柱形基材得以膨润；以及在第二温度下聚合该第二组合物以获得该光学预型体。 | ||
| 地址 | 中国台湾 | ||