提高工艺片成膜均匀性的方法

摘要

本发明公开了一种提高工艺片成膜均匀性的方法，其包括向热的氧化炉炉管内通入氮气；旋转工艺片承载舟，并从原始位置升舟至第一位置；保持旋转工艺片承载舟，对工艺片进行主氧化工艺；主氧化工艺完成后，保持旋转工艺片承载舟，从工艺行程位置降舟至原始位置。本发明通过升舟、降舟和主氧化工艺的过程中保持低速旋转工艺片承载舟，来减小温度场、气流场分布不均匀对工艺片成膜均匀性的影响，从而优化半导体立式炉设备中工艺片的成膜均匀性，同时降低了生产成本。

主权项

一种提高工艺片成膜均匀性的方法，其特征在于，其包括：步骤S01，向热的氧化炉炉管内通入氮气；步骤S02，旋转工艺片承载舟，同时将所述工艺片承载舟从原始位置升舟至工艺行程位置；步骤S03，保持旋转所述工艺片承载舟，同时对工艺片进行主氧化工艺；步骤S04，主氧化工艺完成后，将所述工艺片承载舟从所述工艺行程位置降舟至所述原始位置，其中在所述工艺片承载舟从所述工艺行程位置下降至所述原始位置上方的同时保持旋转所述工艺片承载舟。