| 摘要 |
1. Способ изготовления системы со слоем с низкой излучательной способностью на по меньшей мере одной стороне субстрата, включающий стадии:- получения субстрата,- формирования по меньшей мере одного прозрачного металлического слоя, отражающего ИК излучение и обозначаемого в дальнейшем как слой с низкой излучательной способностью, на по меньшей мере одной стороне субстрата системы со слоем с низкой излучательной способностью, с использованием методов нанесения,- последующей краткой термообработки по меньшей мере одного нанесенного слоя с использованием электромагнитного облучения, избегая, при этом, непосредственного нагрева всего субстрата,характеризующийся тем, что по меньшей мере один слой с низкой излучательной способностью кратко термически обрабатывают, где электромагнитное излучение, используемое для краткой термообработки, регулируют таким образом, чтобы поверхностное сопротивление и, таким образом, поглощение в инфракрасной области спектра и/или пропускание в видимой области спектра и/или спектральное отражение системы со слоем с низкой излучательной способностью принимали значения, характерные для обычных термически обработанных систем безопасного стекла со слоем с низкой излучательной способностью.2. Способ по п. 1, характеризующийся тем, что стадию краткой термообработки слоя с низкой излучательной способностью с использованием электромагнитного излучения осуществляют при такой эмиссионной длине волны электромагнитного излучения, при которой электромагнитное излучение по меньшей мере частично поглощается нанесенным слоем с низкой излучательной способностью.3. Способ по п. 1, хара� |
