| 发明名称 | 碳膜叠层体及其制造方法以及VOC除去装置 | ||
| 摘要 | 一种碳膜叠层体(1)，其具有由大量颗粒构成的多孔性基材(6)以及设置在多孔性基材(6)表面上的碳膜(2)，其中多孔性基材(6)具有与碳膜(2)相接且由平均粒径为0.01～0.11μm的颗粒(3a)构成的表面层(3)以及由平均粒径与构成表面层(3)的颗粒(3a)的平均粒径不同的颗粒构成的多孔体(5)。本发明提供了一种抑制碳膜叠层体(1)中龟裂和针孔的产生并适于薄膜化的碳膜叠层体。 | ||
| 申请公布号 | CN1956770A | 申请公布日期 | 2007.05.02 |
| 申请号 | CN200580007611.8 | 申请日期 | 2005.03.11 |
| 申请人 | 日本碍子株式会社 | 发明人 | 海川和之;富田俊弘;吉田学;小畑政道 |
| 分类号 | B01D69/12(2006.01);B01D53/22(2006.01);B01D71/02(2006.01);C01B31/02(2006.01) | 主分类号 | B01D69/12(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 孙秀武;吴娟 |
| 主权项 | 1、一种碳膜叠层体，其具有由大量颗粒构成的多孔性基材以及设置在上述多孔性基材表面上的碳膜，其中上述多孔性基材具有与上述碳膜相接并由平均粒径为0.01～0.11μm的颗粒构成的表面层以及由平均粒径与构成上述表面层的上述颗粒的平均粒径不同的颗粒构成的多孔体。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||