发明名称 |
阵列基板及其制作方法和显示装置 |
摘要 |
本发明涉及一种阵列基板及其制作方法,以及一种显示装置,上述阵列基板包括:采用铜形成于蚀刻阻挡层上的源漏金属层;采用铜合金形成于源漏金属层上的合金层,铜合金中的非铜金属比铜更易被氧化;形成于合金层上的钝化层;形成于合金层与钝化层之间氧化物层。通过本发明的技术方案,可以采用铜形成源极和漏极,同时使得源极和漏极与钝化层具有较高的结合强度,并且可以避免源极和漏极被氧化,还可以避免源极和漏极中的铜原子扩散。 |
申请公布号 |
CN104795402B |
申请公布日期 |
2016.09.07 |
申请号 |
CN201510166992.X |
申请日期 |
2015.04.09 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
姜春生 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L29/45(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
李相雨 |
主权项 |
一种阵列基板,其特征在于,包括:采用铜形成于蚀刻阻挡层上的源漏金属层;采用铜合金形成于所述源漏金属层上的合金层,所述铜合金中的非铜金属比铜更易被氧化;形成于所述合金层上的钝化层;形成于所述合金层与所述钝化层之间氧化物层,氧化物层是合金层中的原子与钝化层中的原子结合形成的。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |