| 发明名称 | 微光学装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及微光学装置。该装置包括复杂结构和可移动反射镜，可在更短的时间内制造出该微光学装置。硅基底和单晶硅装置层以及置于其间的氧化硅中间层构成基底，其上掩模材料层得以形成且被构图，从而形成与如平面图所示的预期光学装置的结构具有相同图案的掩模。将构造为反射镜表面的表面选择为硅晶体的面。利用掩模，通过反应离子干刻蚀，垂直刻蚀装置层，直到露出中间层为止。随后利用KOH溶液在约十分钟的时间段内以大约0.1μm/min的刻蚀速率，执行对于晶向是各向异性的湿刻蚀，从而将反射镜4的侧壁表面转变为光滑的晶体学表面。随后，选择性地湿刻蚀中间层，从而仅在位于光学装置的可移动部件下面的区域中除去中间层。 | ||
| 申请公布号 | CN100375914C | 申请公布日期 | 2008.03.19 |
| 申请号 | CN200410102355.8 | 申请日期 | 2004.09.30 |
| 申请人 | 日本航空电子工业株式会社 | 发明人 | 加藤嘉睦;吉田惠;森惠一;近藤健治;滨田义彦;伊卷理 |
| 分类号 | G02B26/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01) | 主分类号 | G02B26/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李晓舒;魏晓刚 |
| 主权项 | 1.一种微光学装置，包括：由设置在基底上的单晶硅装置层形成的反射镜；及不同于所述反射镜的结构，所述结构至少包括形成在所述单晶硅装置层的板面中来用于在其中容放光纤的多个光纤槽，其中所述单晶硅装置层具有与(100)面或(110)面对准的所述板面，所述反射镜和所述光纤槽通过包括反射镜表面在内的垂直于所述板面的侧壁表面及平行于所述板面的表面限定外部轮廓，所述反射镜表面以外的所述侧壁表面没有限制为与任何晶体学表面对准，当所述板面分别与(100)面或(110)面对准时所述反射镜具有与(100)面或(111)面对准的所述反射镜表面，且所述反射镜表面与所述反射镜表面以外的所述侧壁表面相比是被光滑化的并且其上提供有高反射率的金属涂层。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||