| 发明名称 | 外延生长用衬底 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种外延生长用衬底，其可以将通过镊子等造成的衬底操作位置限制在衬底周边部的极有限的一部分、从而能够大大抑制伴随衬底操作而污染等的区域。所述衬底为外延生长用的衬底(1)，在与进行外延生长的衬底(1)的表面(1a)相反的背面(1b)侧局部性地存在倒角部(3)。将衬底(1)的直径设定为x(mm)时，在衬底(1)的背面(1b)侧实施的倒角部(3)的长度L为2mm～0.15x(mm)是适宜的。并且，将衬底(1)以表面(1a)朝上的方式放置在平坦面P上时，衬底(1)和平坦面P之间形成的间隙的高度h1、进深d1为0.2mm以上是适宜的。 | ||
| 申请公布号 | CN101645424A | 申请公布日期 | 2010.02.10 |
| 申请号 | CN200910129736.8 | 申请日期 | 2009.03.26 |
| 申请人 | 日立电线株式会社 | 发明人 | 大岛佑一 |
| 分类号 | H01L23/00(2006.01)I;H01L23/544(2006.01)I | 主分类号 | H01L23/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人 | 钟 晶 |
| 主权项 | 1.一种外延生长用衬底，其特征在于，在与进行外延生长的所述衬底的表面相反的背面侧，局部性地实施倒角加工。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||