发明名称 |
磁记录介质及其制造方法、以及磁记录装置和磁记录方法 |
摘要 |
本发明的目的是提供一种能进行高密度记录和高速记录的、重写特性优良的、具有均匀特性的高品质、大容量的磁记录介质等。本发明的磁记录介质是在基板上具有在与该基板面大致垂直的方向上形成了多个细孔的多孔质层而构成,在该细孔的内部,从上述基板侧开始依次具有软磁性层和强磁性层,(1)该强磁性层的厚度为该软磁性层的厚度或其以下,(2)该强磁性层的厚度是由在记录时使用的线记录密度决定的最小位长的1/3倍~3倍的任意一个。本发明的磁记录介质的制造方法是上述磁记录介质的记录方法,包括:多孔质层形成工序,在基板上形成多孔质层形成材料层后,对该多孔质层形成材料层进行多孔质化处理,在与该基板面大致垂直的方向上形成多个细孔,形成多孔质层;软磁性层形成工序,在该细孔的内部形成软磁性层;以及,强磁性层形成工序,在该软磁性层上形成强磁性层。 |
申请公布号 |
CN100351905C |
申请公布日期 |
2007.11.28 |
申请号 |
CN03825181.7 |
申请日期 |
2003.03.19 |
申请人 |
富士通株式会社 |
发明人 |
伊藤健一;熊井次男;佐藤信太郎;松本幸治 |
分类号 |
G11B5/65(2006.01);G11B5/667(2006.01);G11B5/738(2006.01);G11B5/858(2006.01) |
主分类号 |
G11B5/65(2006.01) |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
高龙鑫;王玉双 |
主权项 |
权利要求书1、一种磁记录介质,其特征在于,在基板上具有在与该基板面大致垂直的方向上形成了多个细孔的多孔质层而构成,在该细孔的内部,从上述基板侧开始依次具有软磁性层和强磁性层,该强磁性层的厚度是该软磁性层的厚度或者该软磁性层的厚度以下。 |
地址 |
日本神奈川县川崎市 |