| 发明名称 | 等离子蚀刻过渡金属氧化物的方法 | ||
| 摘要 | 提供一种使用一氧化碳作为主要源气体，等离子蚀刻过渡金属氧化物薄膜的方法。其允许在环境温度下不用加热即可发生羰基化学反应。 | ||
| 申请公布号 | CN101657567A | 申请公布日期 | 2010.02.24 |
| 申请号 | CN200880006814.9 | 申请日期 | 2008.02.29 |
| 申请人 | 桑迪士克3D公司 | 发明人 | U·瑞格胡里姆;M·W·孔恩伊维基 |
| 分类号 | C23F1/00(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵蓉民 |
| 主权项 | 1.一种蚀刻方法，其包括过基于一氧化碳的过渡金属氧化物的等离子蚀刻。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||