发明名称 |
一种片式热敏电阻器及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及热敏电阻器技术领域,特别是一种片式热敏电阻器及其制造方法。该片式热敏电阻器包括基片,基片的上端面设有底层电极,底层电极的上端面设有热敏电阻层,热敏电阻层的上端面的两侧分别设有上层电极,所述热敏电阻层的上端面的中部设有保护层,且保护层位于两侧的上层电极的中间。利用厚膜成膜技术或薄膜成膜技术来制造该片式热敏电阻器,使得其体积减小、重量减轻,热敏性提高、阻值精度高。 |
申请公布号 |
CN102800449B |
申请公布日期 |
2016.07.06 |
申请号 |
CN201210261091.5 |
申请日期 |
2012.07.26 |
申请人 |
东莞市东思电子技术有限公司 |
发明人 |
陈杏良 |
分类号 |
H01C7/02(2006.01)I;H01C7/04(2006.01)I;H01C1/14(2006.01)I |
主分类号 |
H01C7/02(2006.01)I |
代理机构 |
东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 |
代理人 |
李玉平 |
主权项 |
一种片式热敏电阻器的制造方法,其特征在于:其包括以下步骤:步骤1:运用薄膜成膜技术在基片上形成底层电极;在步骤1采用薄膜成膜技术时,使用薄膜沉积工艺,将金、钯、铂、银中的其中几种的合金,或是将镍、铬的合金,沉积在基片上形成具有导体功能膜层的底层电极;步骤2:运用薄膜成膜技术,在底层电极的上面,形成热敏电阻层;使用薄膜沉积工艺,将锰、镍、铜、铁、银中的一种或其中几种的合金,沉积在底层电极上,形成热敏电阻层半成品;再将该半成品放入300至500℃的热处理箱中进行热处理,以形成具有电阻功能的热敏电阻层;步骤3:使用薄膜沉积工艺,将金、钯、铂、银中的一种或其中几种的合金,分别沉积在热敏电阻层上端面的两侧上,并形成上层电极;步骤4:运用厚膜成膜技术或薄膜成膜技术,在热敏电阻层的上端面中间形成保护层,且保护层位于两侧的上层电极之间;其中保护层的材料是树脂体系或硅的化合物体系。 |
地址 |
523000 广东省东莞市大朗镇碧水天源大道新园一路6号G区102室东莞市东思电子技术有限公司 |