发明名称 一种片式热敏电阻器及其制造方法
摘要 本发明涉及热敏电阻器技术领域,特别是一种片式热敏电阻器及其制造方法。该片式热敏电阻器包括基片,基片的上端面设有底层电极,底层电极的上端面设有热敏电阻层,热敏电阻层的上端面的两侧分别设有上层电极,所述热敏电阻层的上端面的中部设有保护层,且保护层位于两侧的上层电极的中间。利用厚膜成膜技术或薄膜成膜技术来制造该片式热敏电阻器,使得其体积减小、重量减轻,热敏性提高、阻值精度高。
申请公布号 CN102800449B 申请公布日期 2016.07.06
申请号 CN201210261091.5 申请日期 2012.07.26
申请人 东莞市东思电子技术有限公司 发明人 陈杏良
分类号 H01C7/02(2006.01)I;H01C7/04(2006.01)I;H01C1/14(2006.01)I 主分类号 H01C7/02(2006.01)I
代理机构 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 代理人 李玉平
主权项 一种片式热敏电阻器的制造方法,其特征在于:其包括以下步骤:步骤1:运用薄膜成膜技术在基片上形成底层电极;在步骤1采用薄膜成膜技术时,使用薄膜沉积工艺,将金、钯、铂、银中的其中几种的合金,或是将镍、铬的合金,沉积在基片上形成具有导体功能膜层的底层电极;步骤2:运用薄膜成膜技术,在底层电极的上面,形成热敏电阻层;使用薄膜沉积工艺,将锰、镍、铜、铁、银中的一种或其中几种的合金,沉积在底层电极上,形成热敏电阻层半成品;再将该半成品放入300至500℃的热处理箱中进行热处理,以形成具有电阻功能的热敏电阻层;步骤3:使用薄膜沉积工艺,将金、钯、铂、银中的一种或其中几种的合金,分别沉积在热敏电阻层上端面的两侧上,并形成上层电极;步骤4:运用厚膜成膜技术或薄膜成膜技术,在热敏电阻层的上端面中间形成保护层,且保护层位于两侧的上层电极之间;其中保护层的材料是树脂体系或硅的化合物体系。
地址 523000 广东省东莞市大朗镇碧水天源大道新园一路6号G区102室东莞市东思电子技术有限公司