发明名称 |
掩模及其制造方法、有机电致发光装置及其制造方法、电子设备 |
摘要 |
本发明提供一种可以高精度地蒸镀掩模,并且没有由冲击等造成的破损的掩模、该掩模的制造方法、使用该掩模的有机电致发光装置的制造方法、利用该制造方法制成的有机电致发光装置及电子设备,该掩模是具备多个贯穿由(100)面方位硅构成的基板的贯穿孔(H)的掩模(M),其特征是,在贯穿孔(H)的壁部(20),设有相对于基板的主面(MT、MB)而沿垂直方向延伸的垂直部(20A)、从该垂直部(20A)以规定的角度倾斜而延伸的倾斜部(20B)。 |
申请公布号 |
CN1630438A |
申请公布日期 |
2005.06.22 |
申请号 |
CN200410104536.4 |
申请日期 |
2004.12.17 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
四谷真一 |
分类号 |
H05B33/10;H01L21/027 |
主分类号 |
H05B33/10 |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李香兰 |
主权项 |
1.一种掩模,是具备多个贯穿由(100)面方位硅构成的基板的贯穿孔的掩模,其特征是,在所述贯穿孔的壁部,设有相对于所述基板的主面沿垂直方向延伸的垂直部、从该垂直部以规定的角度倾斜而延伸的倾斜部。 |
地址 |
日本东京 |