| 发明名称 | 次氟酸酯、氟代过氧化物和/或氟代三氧化物在碳氟化合物刻蚀等离子体中作为氧化剂的应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种混合物和用该混合物从层状基质上刻蚀介电材料的方法。特别地，在一个实施方案中提供了一种用于刻蚀层状基质中的介电材料的混合物，该混合物含有一种碳氟化合物气体和一种选自次氟酸酯、氟代过氧化物、氟代三氧化物及其组合的含氟氧化剂气体；以及任选含有一种惰性稀释气体。本发明中的混合物可以在足以形成活性物质的条件下与含有介电材料的层状基质接触，所述活性物质与该介电材料至少部分反应并除去该部分介电材料。 | ||
| 申请公布号 | CN1599038A | 申请公布日期 | 2005.03.23 |
| 申请号 | CN200410064066.3 | 申请日期 | 2004.07.15 |
| 申请人 | 气体产品与化学公司 | 发明人 | 齐宾;S·A·莫蒂卡;R·G·斯维雷特;P·R·巴多维斯基;E·J·小卡瓦基;H·P·小威瑟斯;R·M·皮尔斯泰恩 |
| 分类号 | H01L21/311;H01L21/3065;C23F4/00;C23F1/00 | 主分类号 | H01L21/311 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 邹雪梅;段晓玲 |
| 主权项 | 1.一种用于刻蚀层状基质中的介电材料的混合物，该混合物含有：一种碳氟化合物；和一种选自次氟酸酯、氟代过氧化物、氟代三氧化物及其组合的含氟氧化剂。 | ||
| 地址 | 美国宾夕法尼亚州 | ||