METHOD FOR FORMING DIELECTRIC LAYER AND FABRICATING METHOD OF CAPACITOR INCLUDING THE SAME,申请号KR20060061411-传众专利搜索

发明名称	METHOD FOR FORMING DIELECTRIC LAYER AND FABRICATING METHOD OF CAPACITOR INCLUDING THE SAME
摘要
申请公布号	KR100716643(B1)	申请公布日期	2007.05.03
申请号	KR20060061411	申请日期	2006.06.30
申请人	HYNIX SEMICONDUCTOR INC.	发明人	KIL, DEOK SIN;SONG, HAN SANG;YEOM, SEUNG JIN;LEE, KEE JEUNG;KIM, JIN HYOCK;KIM, YOUNG DAE;ROH, JAE SUNG
分类号	H01L27/108;H01L27/04	主分类号	H01L27/108
代理机构		代理人
主权项
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