发明名称 曝光装置
摘要 本发明提供以不降低绘制分辨率而扩大带宽的曝光装置,或不会使曝光资料演算处理复杂化而在绘制分辨率高的状态下进行曝光的曝光装置。曝光装置包括DMD、成像光学系统以及绘制部,其中成像光学系统具有投影部,其包括将从在DMD中的开启状态的微型反射镜反射的光所构成的中间投影像聚集在对于主扫描方向xx形成一定倾斜角度θ的第一方向x上的第一方向圆筒状镜片、以及在和第一方向x垂直的第二方向y之间形成一定倾斜角度的副扫描方向yy上分割及聚集光的副扫描方向圆筒状镜片群或在第二方向y上分割及聚集光的第二方向圆筒状镜片群。绘制部在曝光时,由DMD经由成像光学系统、投影像被投影,在主扫描方向xx移动。
申请公布号 CN101144984A 申请公布日期 2008.03.19
申请号 CN200710149283.6 申请日期 2007.09.11
申请人 株式会社ORC制作所 发明人 小林义则
分类号 G03F7/20(2006.01);G02B27/18(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 党晓林
主权项 1.一种曝光装置,该曝光装置包括:DMD;成像光学系统,具有投影部,其中上述投影部具有将从在上述DMD中的开启状态的微型反射镜反射的光所构成的中间投影像聚集在对于主扫描方向形成一定倾斜角度的第一方向上的第一方向圆筒状镜片、以及在和上述第一方向垂直的第二方向之间形成上述一定倾斜角度的副扫描方向上分割及聚集光的副扫描方向圆筒状镜片群或在上述第二方向上分割及聚集光的第二方向圆筒状镜片群;绘制部,在曝光时,由上述DMD经由上述成像光学系统、投影像被投影,在上述主扫描方向移动。
地址 日本东京