電子ビーム検査及びレビューにおける向上した欠陥検出

摘要

一実施形態は、検査及び／またはレビューのための電子ビーム装置に関する。電子源は一次電子ビームを発生させ、電子光学システムは、該一次電子ビームをステージに保持される試料の上に整形及び集束させる。検出システムは、該試料からの二次電子及び後方散乱電子を含む信号搬送電子を検出し、画像処理システムは、該検出システムからのデータを処理する。電子光学システム、検出システム、及び画像処理システムの動作を制御及び調整するホストコンピュータシステム。グラフィカルユーザインターフェースは、パラメータ空間を示し、かつ装置の動作パラメータのユーザ選択及び起動を提供する。別の実施形態は、電子ビーム装置を使用して欠陥を検出及び／またはレビューする方法に関する。他の実施形態、態様、及び特徴も開示される。