| 发明名称 |
LOW SURFACE ROUGHNESS POLISHING PAD |
| 摘要 |
본 발명은 연마 표면을 포함하는 연마 패드 본체를 포함하며, 여기서 연마 패드 본체는 세공을 포함하고, 연마 표면은 0.1 ㎛ 내지 10 ㎛의 표면 조도를 갖는 것인 연마 패드를 제공한다. |
| 申请公布号 |
KR20160019465(A) |
申请公布日期 |
2016.02.19 |
| 申请号 |
KR20157036537 |
申请日期 |
2014.05.30 |
| 申请人 |
CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION |
发明人 |
NAIR JAYAKRISHNAN |
| 分类号 |
B24B37/20;B24B37/24;H01L21/304 |
主分类号 |
B24B37/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
