| 发明名称 | 曝光装置、曝光方法及设备制造方法、以及系统 | ||
| 摘要 | 曝光装置(10)包括：射出激光的激光装置(16)；存储有第1信息的存储器(51)，该第1信息表示形成在晶圆上的图案的线宽误差与从激光装置射出的激光的光谱特性之间的关系；以及主控制装置(50)，根据第1信息及与所使用的掩膜相关的信息，通过激光控制装置(16e)来控制激光的光谱带宽。主控制装置(50)根据第1信息及与所使用的掩膜相关的信息来执行例如抑制线宽误差之类的激光的光谱带宽控制。 | ||
| 申请公布号 | CN101080807A | 申请公布日期 | 2007.11.28 |
| 申请号 | CN200680001363.0 | 申请日期 | 2006.06.30 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 新井诚义 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);H01S3/00(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 左一平 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，其利用能量束使物体曝光而在所述物体上形成图案，此曝光装置的特征在于包括：激光装置，射出激光作为所述能量束；存储装置，存储有图案尺寸误差-光谱特性信息，该图案尺寸误差-光谱特性信息表示物体上所形成的图案的尺寸误差与从所述激光装置射出的激光的光谱特性之间的关系；以及光谱控制装置，根据所述图案尺寸误差-光谱特性信息及与所使用的图案相关的信息，来控制所述激光的光谱带宽。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||