| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Wellenfrontkorrekturelement zur Verwendung in einem optischen System, insbesondere in einem optischen System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage oder einer Maskeninspektionsanlage, mit einer Trägerfolie (110, 210, 410), welche im Betrieb des optischen Systems auf die Trägerfolie auftreffende, eine Arbeitswellenlänge des optischen Systems aufweisende elektromagnetische Strahlung zumindest teilweise transmittiert, wobei die Trägerfolie (110, 210, 410) derart ausgestaltet ist, dass der Realteil des komplexen Brechungsindex über einen Nutzbereich der Fläche der Trägerfolie (110, 210, 410) variiert. |
