制造预制体的等离子体化学气相沉积装置和方法

摘要

本发明涉及一种用于进行等离子体化学气相沉积的装置，其中在玻璃基管内部沉积一层或多层掺杂或未掺杂层，该装置包括具有内壁和外壁的涂覆器和通向涂覆器的波导管，该涂覆器沿着圆筒轴延伸并且具有接近内壁的通道，微波通过该通道离开，该基管可位于圆筒轴上，并且其中至少一个长度为(L)宽度为(b)的环形扼止部件放置在涂覆器内圆筒轴的中心。

主权项

1.一种进行等离子体化学气相沉积法的装置，其中在玻璃基管内部沉积一层或多层掺杂或未掺杂层，该装置包括具有内壁和外壁的涂覆器和通向涂覆器的波导管，该涂覆器沿着圆筒轴延伸并且具有接近内壁的通道，微波通过该通道离开，该基管可位于在圆筒轴上，并且其中至少一个长度为(L)宽度为(b)的环形扼止部件放置在涂覆器内圆筒轴的中心，其特征在于：扼止部件长度(L)小于或等于四分之一波长，该四分之一波长相当于直角坐标系中的四分之一波长，长度(L)定义为扼止部件长度和涂覆器内壁的半径长度之差，两者均在垂直于圆筒轴的方向测量。