发明名称 |
微流体装置的制造方法、微流体装置及微流体装置制造用感光性树脂组合物 |
摘要 |
本发明提供一种微流体装置的制造方法、微流体装置及微流体装置制造用感光性树脂组合物,制造方法包括:由感光性树脂组合物在支撑体上形成树脂层的工序,感光性树脂组合物含有具有至少两个自由基聚合性基的化合物、光自由基产生剂、具有至少两个阳离子反应性基的化合物、光阳离子产生剂以及选自具有保护基的胺、光降解性碱、具有酰亚胺结构的化合物、具有酰胺结构的化合物及具有脲结构的化合物中的至少一种化合物;对树脂层的一部分进行紫外线曝光及显影的工序;在显影后的树脂层上载置覆盖材料而获得层压体的工序;及对所得的层压体进行紫外线曝光的工序。由于光刻后的经图案化的树脂层具有充分的强度与粘性,从而使微流体装置具有良好的流路。 |
申请公布号 |
CN106066575A |
申请公布日期 |
2016.11.02 |
申请号 |
CN201610246881.4 |
申请日期 |
2016.04.20 |
申请人 |
JSR株式会社 |
发明人 |
西村功;星子贤二;金子将寛 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
彭雪瑞;臧建明 |
主权项 |
一种微流体装置的制造方法,其特征在于,包括:工序1,由感光性树脂组合物在支撑体上形成树脂层,所述感光性树脂组合物含有具有至少两个自由基聚合性基的化合物、光自由基产生剂、具有至少两个阳离子反应性基的化合物、光阳离子产生剂以及选自具有保护基的胺、光降解性碱、具有酰亚胺结构的化合物、具有酰胺结构的化合物及具有脲结构的化合物中的至少一种化合物;工序2,对所述树脂层的一部分进行紫外线曝光及显影;工序3,在显影后的树脂层上载置覆盖材料而获得层压体;及工序4,对所得的层压体进行紫外线曝光。 |
地址 |
日本东京港区东新桥一丁目9番2号 |