发明名称 透明导电膜和该透明导电膜形成用涂敷液及透明导电性叠层结构体和显示装置
摘要 透明导电膜的特征是由将透明导电膜形成用涂敷液涂敷在基板上而形成的单层膜构成,该透明导电膜形成用涂敷液含有设定平均主链长度为100~500nm、平均粗细为1~30nm、平均主链长度与平均粗细之比为3~100的范围内的、被覆了贵金属的银微粒的链状凝聚体和粘合剂,相对于100重量份的上述被覆了贵金属的银微粒,将粘合剂设定为40~200重量份的范围内;该单层膜的表面电阻为50~2000Ω/□,不含上述基板的仅单层膜的可见光透过率为40~95%。
申请公布号 CN1297992C 申请公布日期 2007.01.31
申请号 CN03801803.9 申请日期 2003.03.18
申请人 住友金属矿山株式会社 发明人 行延雅也
分类号 H01B5/14(2006.01);H01B1/20(2006.01);C09D5/24(2006.01);C09D7/12(2006.01);C09D201/00(2006.01);B32B27/18(2006.01) 主分类号 H01B5/14(2006.01)
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 经志强;潘培坤
主权项 1.一种透明导电膜,形成在基板上,其特征在于,由将透明导电膜形成用涂敷液涂敷在基板上而形成的单层膜构成,该透明导电膜形成用涂敷液含有溶媒、分散在该溶媒中且设定平均主链长度为100~500nm、平均粗细为1~30nm、平均主链长度与平均粗细之比为3~100的范围内的、被覆了贵金属的银微粒的链状凝聚体和粘合剂,相对于100重量份的上述被覆了贵金属的银微粒,将粘合剂设定为40~200重量份的范围内;该单层膜的表面电阻为50~2000Ω/□,不含上述基板的仅单层膜的可见光透过率为40~95%。
地址 日本东京都