| 发明名称 | 获得曝光设备聚焦位置的方法和聚焦检测方法 | ||
| 摘要 | 获得曝光设备聚焦位置的方法，包括：测量经所述曝光设备曝光生成的光敏材料层图案的侧壁角角度；将所述侧壁角角度输入侧壁角角度与曝光设备聚焦位置坐标的函数关系，获得该侧壁角对应的聚焦位置坐标。本发明还提供曝光设备聚焦检测的方法、半导体衬底表面平坦度的检测方法和提高光敏材料层图案侧壁角一致性的方法。本发明的检测方法可在线检测，能够节省时间。 | ||
| 申请公布号 | CN101458457A | 申请公布日期 | 2009.06.17 |
| 申请号 | CN200710094563.1 | 申请日期 | 2007.12.13 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 林益世;李庆刚;刘乒 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李 丽 |
| 主权项 | 1、一种获得曝光设备聚焦位置的方法，其特征在于，包括：测量经所述曝光设备曝光生成的光敏材料层图案的侧壁角角度；将所述侧壁角角度输入侧壁角角度与曝光设备聚焦位置坐标的函数关系，获得该侧壁角对应的聚焦位置坐标。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江路18号 | ||