| 发明名称 | 一种用离子束加工样品界面实现背散射表征的装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型属于样品表征界面的制备和成像技术，具体为一种用离子束加工样品界面实现背散射表征的装置，利用双束聚焦离子束系统加工样品界面从而实现背散射成像，采用双倾转样品台固定表征样品进行离子束制备表征界面和实现背散射成像。该装置具有聚焦离子束系统、样品台，所述样品台为主倾转台、副倾转台形成的双倾转样品台，在聚焦离子束系统主倾转台上安装与聚焦离子束系统主倾转台转向相同的聚焦离子束系统副倾转台。采用本实用新型装置可以制备出符合扫描电镜需求的背散射表征样品，减少样品的腐蚀、氧化和表面划痕等因素的影响和干扰，较好反映需要分析的样品表面特征，为实现高分辨分析表征样品创造条件。 | ||
| 申请公布号 | CN200982932Y | 申请公布日期 | 2007.11.28 |
| 申请号 | CN200620093922.2 | 申请日期 | 2006.11.03 |
| 申请人 | 中国科学院金属研究所 | 发明人 | 谭军;张磊;张广平;谢天生 |
| 分类号 | G01N1/32(2006.01);G01N23/203(2006.01);G01N13/10(2006.01) | 主分类号 | G01N1/32(2006.01) |
| 代理机构 | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人 | 张志伟 |
| 主权项 | 权利要求书1.一种用离子束加工样品界面实现背散射表征的装置，具有聚焦离子束系统、样品台，其特征在于：所述样品台为主倾转台、副倾转台形成的双倾转样品台，在聚焦离子束系统主倾转台上安装与聚焦离子束系统主倾转台转向相同的聚焦离子束系统副倾转台。 | ||
| 地址 | 110016辽宁省沈阳市沈河区文化路72号 | ||