发明名称 化学放大型正光刻胶组合物
摘要 一种化学放大型正光刻胶组合物具有与底物良好的附着性,以及良好的干蚀抗蚀性,适合用于利用ArF、KrF等的激发激光光刻平印,它含有树脂(X)和产酸剂(Y),其中树脂(X)本身不溶于或微溶于碱,但通过酸的作用溶于碱,其具有式(I)表示的聚合单元,式(II)表示的聚合单元,和式(III)表示的聚合单元(其中如说明书所定义),和衍生于选自马来酸酐和衣康酸酐的不饱和二羧酸酐的聚合单元。∴
申请公布号 CN1259595C 申请公布日期 2006.06.14
申请号 CN01104058.0 申请日期 2001.02.20
申请人 住友化学工业株式会社 发明人 上谷保则;藤岛浩晃;高田佳幸
分类号 G03F7/039(2006.01) 主分类号 G03F7/039(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李悦
主权项 1.一种化学放大型正光刻胶组合物,其特征在于含有树脂(X),其本身不溶于或微溶于碱,但通过酸的作用溶于碱,它具有(a)一种衍生于2-烷基-2-金刚烷基丙烯酸酯或2-烷基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯的聚合单元,由下式(I)表示,(b)一种衍生于3-羟基-1-金刚烷基丙烯酸酯或3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯的聚合单元,由下式(II)表示,(c)一种衍生于脂环烯烃的聚合单元,由下式(III)表示,<img file="C011040580002C1.GIF" wi="1531" he="745" />其中R<sup>1</sup>和R<sup>3</sup>分别独立地表示氢或甲基,R<sup>2</sup>表示烷基,R<sup>4</sup>表示氢或羟基,R<sup>5</sup>和R<sup>6</sup>分别独立地表示氢,具有1-3个碳原子的烷基,具有1-3个碳原子的羟基烷基,羧基或氰基,或R<sup>5</sup>和R<sup>6</sup>一起形成由-C(=O)OC(=O)-表示的羧酸酐残基,和(d)一种衍生于选自马来酸酐和衣康酸酐的不饱和二羧酸酐的聚合单元;并且该树脂是通过包括从其衍生出式(I)聚合单元的2-烷基-2-金刚烷基丙烯酸酯或2-烷基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯;从其衍生出式(II)聚合单元的3-羟基-1-金刚烷基丙烯酸酯或3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯;从其衍生出式(III)聚合单元的脂环烯烃;和选自马来酸酐和衣康酸酐的不饱和二羧酸酐的上述单体共聚进行制备的,其中基于共聚中使用的所有单体总量,2-烷基-2-金刚烷基丙烯酸酯或2-烷基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯的量为5-60%摩尔,3-羟基-1-金刚烷基丙烯酸酯或3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯的量为5-40%摩尔,脂环烯烃和不饱和二羧酸酐的总量为10-90%摩尔,2-烷基-2-金刚烷基丙烯酸酯或2-烷基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯、脂环烯烃和不饱和二羧酸酐的总量为40-95%摩尔,和产酸剂(Y)。
地址 日本大阪府